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인하대학교

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반도체및박막기술연구소

전화 : 032-860-7433 Fax : 032-873-8970 위치 : 2동 247호 e-mail : sglee@inha.ac.kr

설립목적

차세대 성장동력 산업의 하나인 차세대 반도체, 차세대 디스플레이, 그리고 기능성 박막재료에 대한 연구소로써 대학에서의 기초연구, 우수인력 양성 그리고 산학협동을 목적으로 1995년 12월에 설립되었다. 모두 8개 학과 30여명의 교수가 참여하고 있으며 연구 분야로써는 반도체소자 및 공정, 박막 및 재료, 고체물성, 광전자 및 정보디스플레이, 그리고 VLSI 및 SOC(System on a Chip)으로 크게 구성되어 있다. 본 연구소는 또한 클라스 100의 반도체 청정실을 갖추고 있으며 4인치 실리콘 웨이퍼에 집적회로소자를 제작할 수 있는 대부분의 장비들과 측정 장비와 각종 유틸리티의 지원이 마련되어있다. 소자와 공정의 모의실험과 설계, 그리고 집적회로와 시스템의 설계를 위하여 각종 설계 및 검증 소프트웨어도 갖추고 있다.

주요활동 및 사업

  • 반도체 청정실 (마이크로일렠트로닉스 실험실) 운영
  • 반도체 집적회로 표준공정 설정
  • 반도체 공정교육 프로그램 개발
  • 반도체 설계 및 공정 교육 실시
  • 산학연 공동 연구개발사업 추진
  • 단위공정 및 박막재료 연구지원
  • 기술교류회 개최

장비 보유현황

  • 청정실 : 30평 (Yellow Room 5평)
    청정도 : class 100 (photo area는 class 10)

  • 주요공정장비 :
    • Mask Aligner -
      제작사 및 모델명 : Karl Suss, Model MJB 3, MJB 4, MJB 6(설치 예정)
      주요 제원 : contact 방식, 해상도 = 1.0 um, IR lamp 및 Vidicon for backside alignment
    • Spin coater -
      제작사 및 모델명 : Able사, ASS-302
      주요 제원 : slow start, programmable
    • ICP/ LCD Etcher -
      주요 제원 : Turbo-pump, metal, oxide, Si 식각용
    • Sputter -
      주요 제원 : 4 targets, DC and RF magnetron type, lamp heater, co-sputtering과 sequential sputtering 가능
    • Wet Station -
      제작사 및 모델명 : 한양기공
      주요 제원 : 산, 알카리 취급, DI water rinse
    • Furnace -
      제작사 및 모델명 : Thermco
      주요 제원 : 4인치 wafer 열산화용
    • Nano imprint lithography -
      제작사 및 모델명 : obducat Nil 6"
      주요 제원 : 6인치 wafer 임프린트용
    • 부대시설 -
      D.I. Water : 18 meg ohm-cm
      Scrubber : dry type
      Gas Cabinet :
      Smock room :
콘텐츠 담당자
연구진흥팀 최봉혁
ㆍ TEL : 032-860-7166     ㆍ 수정일 : 2017-02-10   이메일
22212 인천광역시 미추홀구 인하로 100, 대표전화 : 032-860-7114, FAX : 032-863-1333, 긴급전화(24시간) : 032-860-9119
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